狹縫涂布設備 Slot-Die

簡要描述:多段式供液,涂布膜層均勻性高

通過3個激光傳感器,實現快速自動對刀、防撞刀

搭配高精度注液泵

可采用鈣鈦礦溶劑驗收

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-06-26
  • 訪  問  量:465

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品牌其他品牌產地類別國產
應用領域環保,能源,電子/電池,綜合


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狹縫涂布設備 Slot-Die


技術特點:
  • 多段式供液,涂布膜層均勻性高

  • 通過3個激光傳感器,實現快速自動對刀、防撞刀

  • 搭配高精度注液泵

  • 可采用鈣鈦礦溶劑驗收

狹縫涂布設備 Slot-Die
技術參數:
狹縫涂布設備 Slot-Die

真空閃蒸及退火設備 VCD & Annealing

技術特點:
  • 集成閃蒸和退火工藝,成膜環境和成膜過程高度可控

  • 大面積樣品退火受熱均勻,保證相變一致性

  • 快速去除濕膜中的殘余溶劑,均勻的過飽和

  • 變頻調速羅茨泵實現抽氣速率可控

狹縫涂布設備 Slot-Die
技術參數:
狹縫涂布設備 Slot-Die

激光劃刻設備 Laser Scriber

技術特點:
  • P1、P2、P3飛秒、皮秒紅外激光可選

  • 高度定制化,膜面/玻璃面劃刻可選,平頂光斑可選

  • 精度高,具備逐線功能,線間距小

  • 工藝成熟,邊緣光潔,無火山環及毛邊

狹縫涂布設備 Slot-Die
技術參數:
狹縫涂布設備 Slot-Die

蒸鍍設備 Evaporation System

技術特點:
  • 多源共蒸,實現大面積鍍膜

  • 熱場和溫控精確

狹縫涂布設備 Slot-Die

技術參數:
狹縫涂布設備 Slot-Die

原子層沉積設備 Atomic Layer Deposition

技術特點:
  • 精確控制薄膜厚度

  • 薄膜均勻性高

  • 溫控精度高

  • 全自主工藝腔室設計,空間型和時間型可選,多片和單片可選

狹縫涂布設備 Slot-Die
技術參數:
狹縫涂布設備 Slot-Die


磁控濺射設備  Sputtering System

技術特點:
  • 工藝穩定性高

  • 自研氧化鎳反應濺射控制器

  • ITO/NiOx靶采用圓柱靶,靶材利用率高

  • 靶-基距可調,低損傷TCO導電膜鍍膜

狹縫涂布設備 Slot-Die
技術參數:
狹縫涂布設備 Slot-Die


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